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為了滿足現(xiàn)代材料研究的挑戰(zhàn)，Swift開發(fā)了一系列*可定制的原位拉伸試樣臺(tái)。這些拉伸試樣臺(tái)適合多種顯微觀測(cè)系統(tǒng)，比如掃描電鏡、透射電鏡、光學(xué)顯微鏡、共聚焦顯微鏡等。支持EBSD，樣品加熱和冷卻,可實(shí)現(xiàn)...

Alpha-Step D-300/500 探針式輪廓儀支持臺(tái)階高度、粗糙度、翹曲度和應(yīng)力的2D 測(cè)量。Alpha-Step臺(tái)階儀光學(xué)杠桿傳感器技術(shù)提供高分辨率測(cè)量，大垂直范圍和低觸力測(cè)量功能。 ...

非接觸式輪廓儀優(yōu)點(diǎn)就是測(cè)量裝置探測(cè)部分不與被測(cè)表面的直接接觸，保護(hù)了測(cè)量裝置，同時(shí)避免了與測(cè)量裝置直接接觸引入的測(cè)量誤差。Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀集成了六種光學(xué)計(jì)量技術(shù)。 ZDot 測(cè)量模式同時(shí)采...

Profilm 3D是一款兼具垂直掃描干涉 (VSI)和高精確度相移干涉 (PSI) 技術(shù)的經(jīng)濟(jì)三維光學(xué)輪廓儀，其可以用于多種用途的高精度表面測(cè)量。我司有此機(jī)器可測(cè)樣。

iNano高精度臺(tái)式納米壓痕儀是一種緊湊，用戶友好的納米機(jī)械測(cè)量系統(tǒng)，設(shè)計(jì)用于硬涂層，薄膜和少量材料。該系統(tǒng)旨在進(jìn)行準(zhǔn)確，可重復(fù)的納米級(jí)機(jī)械測(cè)試，包括壓痕，硬度，劃痕和通用納米級(jí)測(cè)試。iNano具有很...

Lumina AT1光學(xué)表面缺陷分析儀可對(duì)玻璃、半導(dǎo)體及光電子材料進(jìn)行表面檢測(cè)。Lumina AT1既能夠檢測(cè)SiC、GaN、藍(lán)寶石和玻璃等透明材料，又能對(duì)Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板進(jìn)行檢測(cè)，其...

Filmetrics R50 是KLA電阻測(cè)試家族的最新產(chǎn)品。R50方阻測(cè)試儀是KLA超45年電阻測(cè)量技術(shù)地位之作。電阻測(cè)量和監(jiān)控對(duì)于任何使用導(dǎo)電薄膜的行業(yè)都至關(guān)重要，從半導(dǎo)體制造到可穿戴技術(shù)所需的柔...

高精度原子力顯微鏡 ParkNX10為您帶來納米級(jí)分辨率的數(shù)據(jù)，值得您信賴、使用和擁有。 在SmartScanAuto有的智能模式下，系統(tǒng)自動(dòng)執(zhí)行所有必要的成像操作，同時(shí)智能選擇好的圖像質(zhì)量和掃描...

Nano Indenter® G200原位納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)是一種準(zhǔn)確，靈活，使用方便的納米級(jí)機(jī)械測(cè)試儀器。 G200 測(cè)量楊氏模量和硬度，包括從納米到毫米的六個(gè)數(shù)量級(jí)的形變測(cè)量。 可測(cè)量聚合...

SPRm200 表面等離子共振顯微鏡工作原理基于表面等離子共振（SPR）技術(shù)。是世界上先將表面等離子體共振技術(shù)和光學(xué)顯微鏡巧妙結(jié)合為一體的生物傳感檢測(cè)儀?？梢酝瑫r(shí)得到細(xì)胞原位明場(chǎng)成像、SPR成像、及S...

與X射線用氮化硅窗口類似，透射電鏡(TEM)用氮化硅薄膜窗口也使用低應(yīng)力氮化硅薄膜基底。但整體尺度更小，適合TEM裝樣的要求。窗口有單窗口和多窗口陣列等不同規(guī)格。同時(shí)SHNTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口...

公司擁有齊全的納米系列壓印膠材料，熱壓型納米壓印膠、熱塑型、紫外光固化型、紫外光固化納米壓印和光刻兩用膠、舉離型傳遞層材料、刻蝕型傳遞層材料、各種與納米壓印技術(shù)相關(guān)的化學(xué)藥品，如模板防粘劑、基片增粘劑...

桌面型多場(chǎng)輔助化學(xué)機(jī)械拋光設(shè)備,最大兼容4英寸樣品，可定制特殊尺寸拋光頭。3-8氣路通道。使用專門結(jié)構(gòu)“兩點(diǎn)波珠定位”法蘭設(shè)計(jì)。定位準(zhǔn)確，拆裝方便。 保持環(huán)/樣品獨(dú)立氣壓控制，可實(shí)現(xiàn)多段施壓。

原子層沉積系統(tǒng)鍍膜機(jī)經(jīng)濟(jì)型科研沉積平臺(tái) 穩(wěn)定成膜、均勻可靠、面向材料研究便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高

緊湊型臺(tái)式光刻系統(tǒng)重新定義無掩模光刻技術(shù)LITHO MASKLESS 是一款緊湊型臺(tái)式光刻系統(tǒng)利用基于 UV LED 的 DLP 引擎實(shí)現(xiàn)無掩模圖案化。設(shè)計(jì)簡潔，精準(zhǔn)它將微加工技術(shù)從潔凈室和任何研究或...

SUME BW510是用于研發(fā)或小批量生產(chǎn)的半自動(dòng)晶圓鍵合設(shè)備，具備良好的壓力與溫度均勻性較為特的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)保證鍵合的壓盤相對(duì)水平，優(yōu)良的真空系統(tǒng)以及腔體設(shè)計(jì)，方便簡潔的菜單編輯和設(shè)備狀態(tài)監(jiān)控以及安全保...

自由曲面三維面型檢測(cè)儀自由曲面光學(xué)元件應(yīng)用于智能車載顯示、AR 顯示、手機(jī)鏡頭、激光顯示、照明、 光刻等前沿領(lǐng)域，自由曲面三維面型檢測(cè)儀，能夠非接觸測(cè)量光學(xué)鏡面元件的三維面型數(shù)據(jù)，開展三維輪廓分析和三...

晶圓翹曲應(yīng)力測(cè)量儀具備三維翹曲（平整度）及薄膜應(yīng)力的檢測(cè)功能，適用于半導(dǎo)體晶圓生產(chǎn)、半導(dǎo)體制程工藝開發(fā)、玻璃及陶瓷晶圓生產(chǎn)

從產(chǎn)品研發(fā)到質(zhì)量控制，該系統(tǒng)可以用于從超光滑鏡面到粗糙面的各種樣品進(jìn)行表面微觀測(cè)量分析和粗糙度質(zhì)量評(píng)價(jià)。白光干涉原理。

Strain Viewer 內(nèi)應(yīng)力檢測(cè)儀具備化合物晶圓內(nèi)應(yīng)力分布測(cè)量及缺陷篩查等檢測(cè)功能